रसायन विज्ञान (Chemistry) NEET प्रश्न हिंदी में — उत्तर सहित MCQ अभ्यास

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आयनन ऊर्जा निम्नलिखित प्रक्रिया के लिए अधिकतम होगी:

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Explanation

(b) परमाणु जितना छोटा होता है, इलेक्ट्रॉन निकालने के लिए उतनी ही अधिक ऊर्जा की आवश्यकता होती है, अर्थात् आयनन ऊर्जा। साथ ही, दो इलेक्ट्रॉनों को निकालने के लिए अधिक ऊर्जा की आवश्यकता होती है। 

हाइड्रोजन बंधन सबसे मजबूत होता है:

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(c) Hबंधन क्रम:

HF>HO>HN

किस प्रक्रिया में बंध क्रम बढ़ता है और चुंबकीय व्यवहार बदलता है?

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(c) NO में 15 इलेक्ट्रॉन हैं (paramagentic ) जबकि NO+ में 14 इलेक्ट्रॉन हैं (Diamagnetic).

दो संकर कक्षकों के बीच बंध कोण 105°.% S अभिलक्षण कक्षक है:

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(d) 25% के करीब, कोण 109°28' है sp3-संकरण के लिए।

N और B परमाणुओं के चारों ओर समन्वय ज्यामिति और संकरण निर्दिष्ट करें, जो BF3 और NH3 के 1:1 संकुल में हैं:

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(a) इसमें कोई संदेह नहीं कि NH3 और BF3 में क्रमशः sp3 (पिरामिडीय) और sp2 (समतलीय) संकरण होता है, जिसमें N परमाणु पर एक एकाकी इलेक्ट्रॉन युग्म होता है जो sp3 संकरण के बावजूद NH3 के पिरामिडीय आकार के लिए उत्तरदायी है। हालांकि, जैसे ही यह BF3 से समन्वित होता है, दोनों चतुष्फलकीय ज्यामिति प्राप्त कर लेते हैं और sp3-संकरण प्राप्त कर लेते हैं।  

द्विध्रुव आघूर्ण जितना अधिक होगा:

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(a) द्विध्रुव आघूर्ण जितना अधिक होगा आयनिक प्रकृति उतनी ही अधिक होगी। μ=δ×d; अधिक है μ, अधिक होगा δ उस परमाणु पर।

जब O2 एक धात्विक सतह पर अधिशोषित होता है, तो धातु से O2 में इलेक्ट्रॉन स्थानांतरण होता है। इस अधिशोषण के संबंध में गलत कथन है (हैं): 

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 (a)

(a) :गलत : क्योंकि इलेक्ट्रॉनिक स्थानांतरण होता है और यह रासायनिक अधिशोषण है।

(b) :सही: अधिशोषण सदैव ऊष्माक्षेपी होता है।

(c) :सही: O2 धातु से इलेक्ट्रॉन को अपने π*2p कक्षक में ग्रहण करेगा।

(d) :सही: चूंकि इलेक्ट्रॉन π* कक्षक में प्रवेश करता है, बंध कोटि घट जाती है और बंध लंबाई बढ़ जाती है।

निम्नलिखित में से कौन सा कथन सत्य है IO2F2-VSEPR सिद्धांत के अनुसार?

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VSEPR सिद्धांत के अनुसार, IO2F2- आयन में त्रिकोणीय द्विपिरामिड संरचना होती है जिसमें दो एकाकी युग्म और दो I-O द्विबंध भूमध्यरेखीय स्थानों पर अधिकार करते हैं, जो SF4 की संरचना के समान है। इसलिए, दोनों विकल्प (A) और (C) सही हैं।

निम्नलिखित में से कौन सा कथन सही है?

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दिए गए सभी कथन सही हैं। (CH3)3COH, (CH3)3SiOH से कम अम्लीय है क्योंकि सिलिकॉन की संयुग्मी क्षार पर ऋणात्मक आवेश को स्थिर करने की क्षमता कम होती है। CO एक स्थिर अणु है, लेकिन इसका सिलिकॉन एनालॉग स्थिर नहीं है। फॉस्जीन (COCl2) में, C-O बंध लंबाई अनुनाद की उपस्थिति के कारण अपेक्षा से अधिक लंबी होती है, जबकि C-Cl बंध लंबाई छोटी होती है।

एक द्विपरमाणुक अणु का द्विध्रुव आघूर्ण 1.2 D है। यदि इसकी बंध लंबाई 10 -10 m के बराबर है, तो प्रत्येक परमाणु पर इलेक्ट्रॉनिक आवेश का अंश होगा:

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(D) μ=q×d

1.2×10-18=q×10-8cm

q=1.2×10-1810-8=1.2×10-10%charge =qe×=1.2×10-104.8×10-10×100=25%

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