रसायन विज्ञान (Chemistry) NEET प्रश्न हिंदी में — उत्तर सहित MCQ अभ्यास

(b) गलनांक अथवा क्वथनांक अथवा क्रांतिक ताप का क्रम : ${\mathrm{H}}_2\mathrm{O}>{\mathrm{H}}_2\mathrm{Te}>{\mathrm{H}}_2\mathrm{Se}>{\mathrm{H}}_2\mathrm{S}$

(b) ${\mathrm{HIO}}_4>{\mathrm{HBrO}}_4>{\mathrm{HCIO}}_4$$\Rightarrow$ अम्लीय प्रबलता का निर्धारण 

  केंद्रीय परमाणु की विद्युत ऋणात्मकता अथवा आवेश घनत्व के आधार पर किया गया है।

(c) ${\mathrm{I}}_2+10{\mathrm{HNO}}_3\underset{}{\to }2{\mathrm{HIO}}_3+10{\mathrm{NO}}_2+4{\mathrm{H}}_2\mathrm{O}$

(d) बंध वियोजन ऊर्जा $\propto \frac{1}{\mathrm{Bond} \mathrm{length}}$

  बंध लंबाई का क्रम $\mathrm{P}—\mathrm{O}>\mathrm{S}—\mathrm{O}>\mathrm{Cl}—\mathrm{O}$ क्रम $\mathrm{BDE}\mathbf{:}$ $\mathrm{Cl}—\mathrm{O}>\mathrm{S}—\mathrm{O}>\mathrm{P}—\mathrm{O}$

(d)  ${\mathrm{NH}}_3$ दुर्बल अपचायक है ${\mathrm{PH}}_3$ की तुलना में, क्योंकि $\mathrm{X}—\mathrm{H}$ बंध सामर्थ्य

  वर्ग में नीचे जाने पर घटती है। H-बंधन की अनुपस्थिति के कारण, केवल दुर्बल वान

  डर वाल्स आकर्षण बल विद्यमान होता है ${\mathrm{PH}}_3$ में, अतः इसका क्रांतिक

  ताप कम है ${\mathrm{NH}}_3$ की तुलना में।

(a)  (F); हैलोजन परमाणु का आकार बढ़ने पर Si परमाणु पर भीड़

  बढ़ती है, अतः लूइस क्षार के आक्रमण की प्रवृत्ति घट जाती है।

(b)  (T); गलनांक ${\mathrm{NH}}_3$ का सर्वाधिक है, इसमें अंतराअणुक H-बंधन के कारण।

  इसके बाद कम गलनांक होगा ${\mathrm{SbH}}_3$ का, फिर ${\mathrm{AsH}}_3$ का, उच्च अणुभार के कारण

  ${\mathrm{SbH}}_3$ के।

(c)  (F); गलनांक तथा क्वथनांक बढ़ते हैं ${\mathrm{PH}}_3$ से ${\mathrm{SbH}}_3$ होते हुए ${\mathrm{AsH}}_3$ तक, कारण 

  अणुभार में वृद्धि। ${\mathrm{NH}}_3$ इस प्रवृत्ति का पालन नहीं करता, अंतरा 

  आण्विक H-बंधन के कारण।

(d)  (T); बंध आघूर्ण का मान घटता है।

(a)   ${\mathrm{NF}}_3+{\mathrm{H}}_2\mathrm{O}\underset{}{\to }\mathrm{S} {\mathrm{NCl}}_3+{\mathrm{H}}_2\mathrm{O}\underset{}{\to }{\mathrm{S}}_{{\mathrm{N}}^2}$

(b)  ${\mathrm{P}}_4{\mathrm{O}}_{10}\underset{}{\to }{\mathrm{S}}_{{\mathrm{N}}^{\mathrm{AE}}} {\mathrm{SiCl}}_4\underset{}{\to }{\mathrm{S}}_{{\mathrm{N}}^2}$

(c)  ${\mathrm{SF}}_4, {\mathrm{TeF}}_6\underset{}{\to }\mathrm{Both} {\mathrm{S}}_{{\mathrm{N}}^2}$ 

(d)  ${\mathrm{SiCl}}_4, {\mathrm{SiF}}_4\underset{}{\to }\mathrm{Both} {\mathrm{S}}_{{\mathrm{N}}^2}$

(d)  ${\mathrm{PH}}_3$ (लूइस क्षार) ${\mathrm{B}}_2{\mathrm{H}}_6$ (लूइस अम्ल) से अभिक्रिया कर सकता है।

(d)  ${\mathrm{NCl}}_3$ अणु में, ${\mathrm{H}}_2\mathrm{O}$ अणु केंद्रीय N-परमाणु के बजाय कम विद्युत ऋणात्मक Cl-परमाणु पर आक्रमण करता है। 

  ${\mathrm{NCl}}_3+3{\mathrm{H}}_2\mathrm{O}\underset{}{\to }{\mathrm{NH}}_3+3\mathrm{HOCl}$